“14nm芯片提前量产！中国半导体取得突破后，日本”

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据媒体1月9日最新消息，日本化工巨头昭电1月8日宣布，计划在中国上海建设位于中国上海的第二工厂，以提高半导体和显示器材料的生产能力。 据悉，新工厂将于2021年下半年开始生产，建设在上海昭和电子化学材料有限企业(以下简称sse )旁边 根据昭电的计划，上海第二工厂将高纯度氧化亚氮年生产能力提高到1000吨，高纯度八氟环丁烷年生产能力提高到600吨 根据资料，高纯度的一氧化二氮是半导体和显示器制造时氧化膜的氧气源的特殊气体，高纯度的八氟环丁烷是该氧化膜的微细加工(蚀刻， 简言之，这两者都是半导体生产过程中的重要原料 外界猜测，这家日资企业此次在中国设立第二家新工厂，可能是担心日本对自家半导体出口限制的影响 2019年7月，日本宣布对韩国实行半导体材料限制 在日本的这一举动下，韩国半导体相关公司也减少了与日本公司的经济交流，同时转移到中国进行半导体相关合作 据报道，2019年12月12日，韩国电子巨头三星宣布，将向中国西安芯片工厂增加80亿美元(约562亿元人民币)的投资，以促进nand闪存芯片的生产。 事实上，在众多国际半导体巨头来中国建厂的背后，我国半导体产业不断迎来新的突破 根据解体，未来3-5年将是中国半导体产业实现弯道超车、走向中高级的黄金时期 据媒体1月9日最新消息，中国芯片制造商中芯国际今天宣布，14纳米级芯片提前完成批量生产。 2019年12月，为了加快关键核心技术的自主创新，打破西方大国的技术封锁，中国在山东临淄经济开发区设立了国内第一个第三代半导体材料项目，研究开发和生产、磁功能材料、磁功能材料， 据统计，截至年底，中国建设、建设、生产的12英寸集成电路生产线33条、8英寸26条